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RIE反應(yīng)離子刻蝕機

簡要描述:CIF 推出 RIE 反應(yīng)離子刻蝕機,采用 RIE 反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式,實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所,微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。RIE反應(yīng)離子刻蝕機適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進行 RIE 反應(yīng)離子刻蝕。

  • 產(chǎn)品型號:SPB5/plus
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-04-28
  • 訪  問  量:1752

詳細介紹

品牌CIF
CIF 推出 RIE 反應(yīng)離子刻蝕機,采用 RIE 反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式,實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所,微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。RIE反應(yīng)離子刻蝕機適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進行 RIE 反應(yīng)離子刻蝕。
具體包括:
◆ 介電材料(SiO2、SiNx 等)
◆ 硅基材料(Si,a-Si,poly Si)
◆  III-V 材料(GaAs、InP、GaN 等)
◆ 濺射金屬(Au、Pt、Ti、Ta、W 等)
◆ 類金剛石(DLC)
 應(yīng)用領(lǐng)域:

RIE反應(yīng)離子刻蝕機主要用于微電子芯片、太陽能電池、生物芯片、顯示器、光學(xué)、通訊等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。

產(chǎn)品特點

◆  7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面,自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài),20 個配方程序,工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。

◆  PLC 工控機控制整個清洗過程,手動、自動兩種工作模式。

◆  真空艙體、全真空管路系統(tǒng)采用 316 不銹鋼材質(zhì),耐腐蝕無污染。

◆  采用防腐數(shù)字流量計,  實現(xiàn)對氣體輸入精準控制。標配雙路氣體輸送系統(tǒng), 可選多氣路氣體輸送系統(tǒng), 可輸入氧氣、氬氣、 氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣等氣體。

◆  采用花灑式多孔進氣方式,改變單孔進氣不均勻問題。

◆  HEPA 高效過濾,氣體返填吹掃,防止二次污染。

◆  符合人體功能學(xué)的 60 度傾角操作界面設(shè)計,操作方便,界面友好。

◆  采用頂置真空艙,上開蓋設(shè)計,下壓式鉸鏈開關(guān)方式。

◆  上置式 360 度水平取放樣品設(shè)計,符合人體功能學(xué),操作更方便。

◆  有效處理面積大,可處理最大直徑 154mm 晶元硅片。

◆  安全保護,艙門打開,自動關(guān)閉電源,機器運行、停止提示。


 

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